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及時處理晶圓拋光機故障是有效保障加工精度的關鍵
20266-4

在半導體芯片加工工序中，精密拋光設備是打磨晶圓表面、優化平整度的核心加工設備，保障晶圓后續制程加工質量。晶圓拋光機通過精密研磨工藝完成晶圓表面平整處理，滿足半導體生產的精度要求。及時排查并處理設備運行故障，能夠有效保障晶圓拋光機的加工精度，穩定產品良率。以下是設備使用過程中的常見問題及對應解決方法。1、晶圓表面拋光不均加工后晶圓局部厚薄不一、平整度偏差較大，多為拋光墊磨損不均、盤面壓力失衡導致。需...

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  • Logitech將推出全新的LP70多工位精密研磨和拋光系統。該系統自動化程度高，具有創新的特性和功能，是需要高規格表面光潔度和平整度應用的多晶圓加工方面的理想解決方案。LP70精密研磨和拋光系統將成為Logitech日益增長的高度自動化和...

    2018-09-17

  • 2018-04-03

  • 北京華沛智同科技發展有限公司成立2004年，致力于將國外高品質的元素分析耗材引進到國內，并推薦給國內同位素質譜儀，C、N、O、S、H元素分析儀器使用單位，讓中國用戶使用到價廉物美，具有的元素分析耗材，目前，北京華沛智同科技發展有限公司是英國...

    2018-03-07

  • 中山大學電子與信息工程學院光電材料與技術國家重點實驗室，為滿足專業人才培養需要，2016年底，利用國家專項教學資金購置光電國家重點實驗室化學機械平坦化機和研磨拋光機各一套。設備均為目前精密研磨拋光設備領域的英國Logitech公司生產，均為...

    2018-01-25

  • 科羅拉多礦業學院一直從事地質方面研究，他們的地質薄片制備一直使用Logitech的LP30機器，此臺LP30機器已幫助他們制備地質薄片超過40年。LP30是精密研磨拋光系統LP50的前身，在LP50面世之前，有約30年時間Logitech停...

    2017-11-23

  • 化學拋光設備在大多數情況下，電解拋光后的工件表面有更高的明亮度和更高的反射率，電解拋光能使工件表面鉻鎳化合物富集，在同等條件下工件的耐腐蝕性明顯增強。表面更易清洗和保持清潔，減小表面摩擦系數，消除表面應力集中，能較快的消除毛刺。對于機械拋光...

    2017-07-17

  • 氣體分析質譜儀采用模塊化設計，可以提高應用靈活性，托盤冷卻能夠保持樣品完整性，強制風冷色譜柱烘箱能夠提供穩定的保持時間，大容量溶劑托盤，可以實現無人看管操作，氣體分析質譜儀將帶電離子根據其質荷比加以分離，用于紀錄各種離子的質量數和豐度，質量...

    2017-03-24

  • 質譜法是zui流行的分析方法之一，氣體分析質譜儀通過在真空下測量分壓來分析化學物質的組成。這一分析通常在研發領域和日常生活用品的生產中進行，研究與開發，催化研究、藥物開發、新材料開發，監控生產流程，在冶金中、在化學合成中、在半導體生產中、在...

    2016-12-15

  • 一次離子可能受到樣品表面的背散射，也有部分進入樣品表面，這部分離子把能量傳遞給晶格，當入射能量大于晶格對原子的束縛能是，部分原子脫離晶格向表面運動，并且產生原子間的級聯碰撞，當這一能量傳遞到表面，并且大于表面的束縛能時，飛行時間二次離子質譜...

    2016-10-20

  • 精密研磨拋光夾具在含有磨料的研拋液中緊壓在工件被加工表面上作高速旋轉運動，工件由工作臺帶動作縱向往復運動、使得磨具在工件表面形成極其復雜、均勻而又細密的運動軌跡。由于該技術同時具有研磨、拋光和超精加工的特點，因此稱為超精研拋技術。在研磨過程...

    2016-10-11

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