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晶圓拋光百科

更新時(shí)間:2026-04-03      瀏覽次數(shù):7506

Logitech公司50多年來一直專注于高精密設(shè)備的設(shè)計(jì)和制造,具有豐富的復(fù)雜材料加工處理經(jīng)驗(yàn)。Logitech精密研磨拋光系統(tǒng)在半導(dǎo)體晶圓表面處理、晶圓減?。ū硿p)和形狀控制方面提供大量的技術(shù)解決方案。選擇Logitech,我們的專家團(tuán)隊(duì)將與您一起將相關(guān)工藝和系統(tǒng)整合到您的晶圓制備項(xiàng)目中。

Logitech系統(tǒng)通??杉庸ぬ幚砉?、砷化鎵、鎘碲化鎘、磷化銦、汞碲化鎘、硫化鎘等多種材料。

晶圓拋光

 


特征工藝:

1. 晶圓襯底的粘接工藝,可滿足低、中、高不同的精度要求;

2. 可通過單頭自動(dòng)、單工作站或多工作站不同的設(shè)備配置完成用戶所需的磨拋工作;

3. 提供High Speed System、 Tribo系統(tǒng) 、 Orbis系統(tǒng)等多種選擇,可滿足一般的化學(xué)機(jī)械拋光和專門的化學(xué)腐蝕拋光要求;

4. 提供配套的測量及檢測設(shè)備,可進(jìn)行輔助工藝過程和終測試

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